专利择要显示，本申请属于广角 LMD 畸变校正领域，详细公开了一种广角 LMD 畸变标定方法、校正方法、装置及设备，标定方法包括：获取广角 LMD 拍摄的平面标定图案的取像图像，确定取像图像内各点的坐标；基于广角 LMD 成像模型和所述各点的坐标进行优化求解，得到广角 LMD 的内参和外参；获取根据内参和外参对所述取像图像的畸变进行一次校正后得到的各点的校正坐标和各点的预期坐标；基于各点的校正坐标和各点的预期坐标确定广角 LMD 的局部插值参数；所述局部插值参数用于对一次校正后的取像图像进行局部偏差补偿，以对取像图像的畸变进行二次校正。
通过本申请，利用畸变解析模型加上局部偏差改动的办法进行畸变标定，畸变校正精度高。

精测电子申请“一种广角 LMD 畸变标定方法、校正方法、装配及设备”专利运用畸变解析模型加上局部误差修正的办法进行畸变标定畸变校正精度高_畸变_广角 计算机

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